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天成半導體突破14英寸SiC單晶技術 開啟中國寬禁帶半導體商業化新篇章

作者:氮化鎵代理商   發布時間:2026-04-14 09:58:36   點擊量:

近日,中國半導體材料領域傳來振奮人心的消息,天成半導體成功開發出14英寸碳化硅(SiC)單晶。這一突破性進展不僅標志著中國在先進寬禁帶半導體材料研發上邁出關鍵一步,更被業界視為中國邁向14英寸SiC商業化生產的第一步,對提升中國在全球功率半導體產業鏈中的競爭力具有里程碑式的意義。

 

SiC晶圓

碳化硅作為第三代半導體的典型代表,因其優異的物理特性,如高禁帶寬度、高臨界電場、高熱導率和高電子飽和漂移速率,在高溫、高壓、高頻環境下展現出硅基器件無法比擬的優勢。它被廣泛應用于新能源汽車的電力電子系統(如逆變器、車載充電器)、5G通信基站、數據中心電源、工業電機驅動以及光伏逆變器等高功率、高效能領域。隨著全球能源效率需求的日益增長,SiC器件的市場需求呈現爆發式增長。

 

然而,SiC材料的生長難度遠超傳統硅材料。SiC單晶的生長需要在極高的溫度下進行(通常超過2000℃),且生長速率緩慢,容易產生各種晶體缺陷,如微管、位錯等,這些缺陷會嚴重影響器件的性能和可靠性。目前,國際上主流的SiC晶圓尺寸仍以6英寸和8英寸為主,14英寸的開發無疑是 SiC晶圓尺寸大型化的一個巨大飛躍。晶圓尺寸的增大意味著在單片晶圓上可以制造出更多的芯片,從而顯著降低單位芯片的成本,提高生產效率,這是半導體產業發展的必然趨勢,也是提升產業競爭力的關鍵所在。

 

天成半導體此次成功開發出14英寸SiC單晶,充分展現了中國在SiC材料生長技術方面的深厚積累和創新能力。從6英寸、8英寸到14英寸,不僅僅是尺寸的簡單放大,更是材料生長工藝、設備、缺陷控制、熱場均勻性等一系列復雜技術挑戰的集中體現。這意味著需要更精密的設備、更穩定的生長環境以及更先進的表征和檢測技術。此次突破,不僅為中國功率半導體產業提供了更大尺寸、更高性價比的襯底材料,也為后續的器件制造和封裝環節帶來了更多可能。

 

對中國半導體產業而言,14英寸SiC單晶的成功開發具有多重戰略意義。首先,它有助于打破國際在高端SiC材料上的技術壟斷,提升中國在寬禁帶半導體領域的自主可控能力,減少對進口材料的依賴。其次,更大的晶圓尺寸將推動SiC功率器件的成本下降,加速其在新能源汽車、充電樁、智能電網等領域的普及應用,進而支持中國在綠色能源和高端制造產業的快速發展。最后,這一成就也將進一步刺激國內相關設備、耗材和封裝測試等產業鏈環節的技術進步,形成完整的國產化生態體系。


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