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隨著ASML近期表示其近期訂單有20%由中國客戶持有，近一半營收來自中國，這家全球最大光刻機廠商未來的經(jīng)營趨勢可以說與中國息息相關。

盡管全球光刻機市場集中度高，ASML、Nikon、Canon三大廠商共占有超過75%的市場份額，但中國市場的特殊需求和增長速度，使得這些國際巨頭也難以完全滿足中國市場的需求。

中國在光刻機技術方面雖然與國際先進水平存在差距，如中科院曾表示，中國光刻機技術至少落后阿斯麥（asml）15年，但中國在追趕的過程中取得了一定的進展。例如，上海微電子裝備有限公司的600系列光刻機，可滿足IC制造90nm、110nm、280nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求，顯示出中國在光刻機技術研發(fā)方面的進步。

同時，中國市場的快速發(fā)展也為光刻機行業(yè)提供了難得的發(fā)展機遇。2021年中國光刻機需求量增長至581臺，市場規(guī)模回落至134.41億元；預計2023年中國需求量增長至727臺，這表明中國市場對光刻機的需求持續(xù)增長。